实验室石墨烯CVD设备：1200度管式炉+真空系统+混气系统+水冷系统
- 电炉类型：高温电炉
- 电炉名称：实验室石墨烯CVD设备：1200度管式炉+真空系统+混气系统+水冷系统
- 电炉类型：高温管式炉
- 电炉系列：西格马SGM
- 电炉规格：
- 电炉温度：CVD管式炉
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产品详情
西格马实验室石墨烯CVD由管式炉+真空系统+混气系统+水冷系统组成 ，石墨烯CVD管式炉温度可以达到1200度(可定制),可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
SGM CVD-1200管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等点。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。
石墨烯CVD炉用途：
可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。
石墨烯CVD炉参数：
电炉名称：西格马石墨烯CVD
电炉型号：SGM-CVD1200
额定温度：1200℃
工作温度：≤1100℃
加热元件：合金加热丝
气路控制：浮子流量计/质量流量计
真空系统：旋片泵/扩散泵/分子泵
可选配件：水冷机/数显真空计
温控方式：智能化30段PID微电脑可编程控制
温控保护：具有超温及断偶报警功能
热电偶：K型
炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维
加热速率：0-20℃/分
恒温精度：±1℃
极限真空：6.0×10-5Pa
工作真空：7.6×10-4Pa
均匀性：±5℃
炉壳结构：双层壳体带风冷系统
额定功率：4Kw
供电电源：110-480V 50/60Hz
售后服务：12个月质保，终身保修(易损件除外)
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