VTF-PECVD-1200立式单温PECVD系统，由VTL-VTF1200真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。

主要特点：

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

VTF1200-PECVD系统以瑞典Kanthal电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、价格惠等点。

(1)、表面温度高可达1420℃

(2)、表面为不锈钢色（非常亮、客户识别时要注意）、不会生锈，使用时间再长都不会掉渣。

(3)、Kanthal电阻丝资料下载

(4)、Kanthal电阻丝网本

(5)、电阻均衡、温场均衡性好

当电路过流或漏电时，空开会自动断开。

该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出

1、真空吸滤成型的质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。

2、采用技术成型。

3、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按蕞的热工技术布置、经过热工软件模拟温场

4、采用4周加热，温场更加均衡

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