小型1200℃真空热处理炉主要用途,参数

主要用处：适用于电子陶瓷与高温构造陶瓷的烧结、玻璃的精细退火与微晶化、晶体的精细退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米资料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺请求的热处置，是科研单位、高等院校、工矿企业不错的实验和消费设备此款真空热处置炉，衔接有真空泵，可抽真空通惰性气体等，特地设计用于对物料在真空状态并通一定氛围（如惰性气体等）环境下停止烧结，额定温度能够到达1800℃。此款真空热处置炉采用氧化铝纤维作为炉膛资料，以硅钼棒或者硅碳棒为加热元件，炉体设计是炉膛具有较好的真空密封性，炉体上装置有气体控制系统。真空热处置炉主要用处：高校、科研院所、工矿企业做高温氛围烧结、氛围复原、 CVD 实验、真空退火用的不错产品工矿企业不错的实验和消费设备。

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