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碳纳米管生长定制炉(T max 1100℃)
设计用于1000℃以下多样化CVD生产工艺,管式炉温区个数和长度合理化设计,制备经验足,工艺符合性强,设备具备性能稳定,温度控制精准,适合高校、科研院所及碳材料企业批量化生产之用。
注:给出的 高温度为工作管外测定,其它温区个数和加热区长度可根据客户工艺要求定制。
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