1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200℃-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的，特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。 1200℃双管滑动式四通道混气" />

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1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200℃-4-C4LV

  • 电炉类型：高温电炉
  • 电炉名称：1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200℃-4-C4LV
  • 电炉类型：网带炉
  • 电炉系列：西格马SGM
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