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简单介绍: 等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了四路质子混气管式pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材 详情介绍:
产 品 特 点 |
与普通的CVD系统相比,因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。 配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温,实现快速退火。 操控界面可配备液晶操作系统,图文显示,直观易懂,对于设备的使用操作简单易学 该系统额定工作温度接近1150℃,能满足大多数热处理场合。 该设备可具体用于:碳、ZnO纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验。 |
等 离 子 发 生 器 |
输出功率:5~500W&±1%. 射频频率:13、56MHz&±0.005%. 反射功率:*大约200W 阻抗匹配:自动 ![]() |
真 空 泵 机 组 |
双极旋片泵,极限真空0.1Pa KFD25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连. 管内真空可达1Pa 可选:本公司的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3、8x10-5至1125Torr.不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(需要另外计算费用) ![]() |
质量流量计 |
三通道的质量流量计(精度0.02%):数字显示,自动控制. MFC1范围:0~100sccm MFC2和3:0~500sccm 一个混气罐,底部装有泄废液口. 进气接口:1/4NPS. 出气接口:1/4NPS. |
水冷系统 |
水冷法兰要求:水流量gt;=10L/M,配有专业水冷机组。![]() |
管式炉 |
炉管直径:80mm 炉管长度:1400mm 炉膛长度:440mm 控温精度:&±1℃ 工作温度:≦1200℃ ![]() |
四路质子混气管式pecvd系统
哪个厂家的质量好?生产厂家洛阳高温电阻炉厂家质量好,售后完善。