卷对卷热压印-电化学快速鼓泡转移设备 2020-07-06

设备势： 卷对卷热压印-电化学快速鼓泡转移方法，避免了铜箔刻蚀的常规转移工艺，实现了石墨烯从铜箔生长基底直接向工业用PET柔性透明塑料基底的连续化无损转移，从而制备了..

大型卷对卷连续石墨烯膜生长设备 2020-07-06

Stock roll Annealing zone Growth zone 主要特点 基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连..

卷对卷薄膜石墨烯生长设备R-T-R、Roll-to-roll film graphene growth equipmen 2020-07-06

主要特点 基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司利用一种新型等离子增强卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法，设计并研..

等离子体增强卷对卷连续生长CVD系统 R-T-R/Plasma Enhanced Roll to Roll Chemic 2020-07-06

主要特点 Main feature Under the vacuum condition , a RF power supply acts on the rare gas in the vacuum chamber to form the plasma equivalent glow effect ( PECVD patent of our company ) , and the field energy of the plasma replaces the..

RTP快速升温炉TF-1200℃-RTP-180 2020-07-06

加热腔体 加热效果图 内外双管 主要特点 RTP快速升温炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体炉管可实现自动分..

RTP快速升温炉TF-1200℃-RTP-130 2020-07-06

加热腔体 加热效果图 内外双管 主要特点 RTP快速升温炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体炉管可实现自动分..

RTP快速升温炉TF-1200℃-RTP-100 2020-07-06

加热腔体 加热效果图 内外双管 主要特点 RTP快速升温炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体炉管可实现自动分..

小型快速升温炉 TF-1200℃-RTP-S90B 2020-07-06

技术参数 型号..

正压真空气氛管式炉TF-1200℃-III-PV 2020-07-06

主要特点 此款设备是我司研发的一款正压真空气氛管式炉，可承受正压0-15kg，炉管采用特制防爆祁连石英管，外加防护套加强。出气端法兰设计有可调泄压阀，当正压超过设定压..

正压真空气氛管式炉TF-1200℃-PV 2020-07-06

主要特点 此款石墨烯管式炉设备是我司研发的一款正压真空气氛管式炉，可承受正压0-15kg，炉管采用特制防爆祁连石英管，外加防护套加强。出气端法兰设计有可调泄压阀，当压..

回转PECVD TF-1200℃-R-PECVD 2020-07-06

主要特点 本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前额定端的金属复合材料制备设备。可以用于动力电池，提升电池内阻和能量密度，有效解决新能源汽车电池的问题。 1.该设..

等离子体增强回转PECVD系统 TF-1200℃-R-PECVD/Plasma enhanced rotational 2020-07-06

..

连续回转PECVD系统 TF-1200℃-RP-PECVD/Continuous rotary PECVD syste 2020-07-06

主要特点 该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生..

小型回转PECVD系统TF-1200℃-R-S-PECVD/Small rotary type PECVD 2020-07-06

主要特点Main features 该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀; The tube of the equipment can be rotated 360 degrees, and the quartz baffle on the inner wall of the tube help..

近距离可调化合物薄膜沉积系统CSS Close Spaced Sublimation 2020-07-06

主要特点 本设备采用上下两个独立红外加热体，用磨砂石英作为绝热和支架，配备样品测温点，可直接测试样品温度。可以通过调节上加热体来增加或缩短两个加热体间的距离，实..

二维材料生长CVD系统/Two-dimensional material growth CVD system 2020-07-06

主要特点Main features 前端配有预热炉，可用于蒸发固态源 Equipped with a preheating furnace for evaporating solid state sources 加热炉选用滑轨炉，可实现快速升温/降温，缩短实验时间 Uses a slide furn..

前端预热法硫化钼制备设备 2020-07-06

主要特点 前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。并配有气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻..

滑轨式硫化钼制备设备 2020-07-06

主要特点 STR TF-1200C-II-SL滑轨式快速升温炉适用于MoS2的制备，也同样适用于要求升降温速度比较快 的CVD实验，这款设备操作时可将MoO3或MoO2退火处理后将热场推到S粉..

磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备 2020-07-06

主要特点 此设备特点是将硫粉放于左端冷区，当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操..

先进多功能二维材料生长系统 TF-1200℃-II-SSL-CVD 2020-07-06

主要特点 1.此款设备提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位置的快升降温。 2.纵向多接口..