射频电源150W/300W/500W 2020-07-06

本产品属管式可定制PECVD零部件，可承接现有管式炉PECVD设备。 信号频率 13.56 MHz±0.005% 功率输出范围 0W~500W 蕞大反射功率 100W 射频输出接口 50 Ω, N-type, female 功率稳定度 ≤5W 谐波分量..

大型卷对卷连续石墨烯膜生长设备 2020-07-06

Stock roll Annealing zone Growth zone 主要特点 基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连..

铜铟镓硒太阳能薄膜电池专用炉 2020-07-06

主要特点 这是一款针对太阳能硒化设计的专用炉，炉体上端腔体可以实现离子增强硒化功能，利用上下腔体内的压差实现硒化气体均匀扩散乘积在基体表面。上腔体温度调节范围50-60..

三温区滑轨式PECVD系统（TF-1200℃-III-SL-PECVD） 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

双温区滑轨式PECVD系统PECVD-II-500A 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

双温区PECVD系统 TF-1200℃-II-PECVD/TF-1200℃-II-SL-PECVD 2020-07-06

特点及用途： PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体，辉光放电等离子体中：电子密度高10 9 -10 12 cm 3 电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍，使含有薄..

单温区滑轨式PECVD系统 TF-1200℃-SL-PECVD 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

辉光等效等离子PECVD系统 TF-1200℃-PECVD 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验和中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领..

小型滑轨式PECVD系统TF-1200℃-S-SL-PECVD 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

微型PECVD系统TF-1200℃-S-PECVD 2020-07-06

产品简介：本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用，同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域..

卷对卷连续生长PECVD设备RTR-III-150 2020-07-06

该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，压力控制系统，射频控制系统、..

迷你智能型等离子体可回转化学气相沉积系统（型号： TF-1200℃-R-S-PECVD） 2020-07-06

本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前额定端的金属复合材料制备设备。可以用于动力电池，提升电池内阻和能量密度，有效解决新能源汽车电池的问题。 1.该设备炉管可36..

氢气炉系统 2020-07-06

技术参数： 1.额定温度：1700℃ 2.额定温度：1650℃ 3.加热区长度：760mm 4.恒温区长度：550mm 5.加热元件：硅钼棒 6.热电偶：B型 7.温控方式：智能化30段可编程控..

井式坩埚炉 TF-1200℃-CT/Well-type crucible furnace 2020-07-06

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真空井式坩埚炉 TF-1200℃-VF 2020-07-06

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高温井式坩埚炉 TF-1400℃-VF-D 2020-07-06

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氧化锆义齿烧结炉MF-1700DB 2020-07-06

设备特点： 我公司自主研发生产的MF-1700DB氧化锆义齿烧结炉主要应用于：义齿加工行业的氧化锆烧结，也可用于粉末冶金行业的高温材料烧结与退火。该设备底盘可自动升降，..

前开式真空井式坩埚炉TF-1200℃-VF-B 2020-07-06

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真空烧结炉TF-1200℃-VB/Vacuum Sintering furnace 2020-07-06

主要特点Main features: Can sintering under the condition of vacuum . 此款设备可在真空气氛条件下烧结 With quartz chamber and can keep the cleanness。 腔体为石英件，可有效保证烧结条件的洁净度。 Suitabl..

RTP快速升温炉/大口径快速升温炉φ210 2020-07-06

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