主要特点Main features: 1) Can pull in the required high tem. to sampl...
主要特点Main features: 1) Can pull in the required high tem. to sampl...
主要特点 该款设备主要特点是管径大,恒温区长,温度精确,适用于多样品烧结或中试实...
主要特点Main features: 1) Used for big size graphene film growing with...
主要特点 此款滑轨式高温管式炉广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较...
主要特点 STR TF-1200C-II-SSL双独立温场滑动炉具有两个独立滑动和温度控制的温场。...
主要特点 滑轨式快速升降温炉是专为生长薄膜石墨烯研制的,也同样适用于要求升降温速...
主要特点 本液氮冷井是一款真空管路冷凝设备,专为冷凝真空系统中难以过虑的有机小分...
主要特点 1500℃单端滑轨式快速升降温炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。可用刚玉...
主要特点 滑轨式快速升温炉是专为生长石墨烯研制的石墨烯生长专用炉,也同样适用于要...
主要特点 mall in size, lower power consumption 体积小,功耗低 With doub...
1、主要特点 该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进...
主要特点: 1、滑轨式快速升温炉是专为生长石墨烯研制的石墨烯生长专用炉,也同样适...
设备特点 此款设备是专为生长石墨烯、碳纳米管研制的生长专用炉,也同样适用于要求升...
设备特点 此款1700℃高温CVD系统,是由1700度管式炉、三路质量流量计系统以及国产高...
设备特点 此套设备是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成,...
加热区参数 炉管尺寸:外径Φ25/50*600mm (管径可选) 加热元件:电阻丝(Fe-Cr-Al ...
主要特点 炉体采用硅钼棒加热额定温度可至1650℃,高真空系统采用进口分子泵机组,一...
主要特点 该设备是由1200度开启式管式炉、精密的质量流量控制系和真空系统所组成。广...
设备特点 此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器,辅助二维材料蒸发,后端为双...